种类 | 成份 | 规格 | 种类 | 成份 | 规格 | 成份 | 规格 |
稀 土 杂 质 (%) | TREM | 99% | 非 稀 土 杂 质 (%) | Fe | ≤0.04 | W | ≤0.05 |
Gd/TREM | 99.9% | Si | ≤0.02 | Ta | ≤0.05 | ||
Sm/TREM | <0.01 | Ca | ≤0.02 | Nb | ≤0.05 | ||
Eu/TREM | <0.01 | Mg | ≤0.005 | Mo | ≤0.05 | ||
Tb/TREM | <0.01 | Al | ≤0.02 | Ti | ≤0.05 | ||
Dy/TREM | <0.01 | Cu | ≤0.01 | C | ≤0.03 | ||
Y/TREM | <0.01 | Ni | ≤0.015 | O | ≤0.15 | ||
以上产品规格可以根据客户要求定制 |
靶材介绍 | ||||||
靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,通过更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。通常是在真空中加热蒸发形成薄膜,可以通过磁控溅射、电子束蒸发、激光溅射等技术来制备薄膜。 | ||||||
优质靶材的要求 | ||||||
1、杂质含量低,纯度高。靶材的纯度影响薄膜的均匀性。 | ||||||
2、高致密度。高致密度靶材具有导电、导热性好、强度高等优点,使用这种靶材镀膜,溅射功率小,成膜速率高, 薄膜不易开裂,靶材使用寿命长,而且溅镀薄膜的电阻率低,透光率高。 | ||||||
3、成分与组织结构均匀。靶材成分均匀是镀膜质量稳定的重要保证。 | ||||||
4、晶粒尺寸细小。靶的晶粒尺寸越细小,溅镀薄膜的厚度分布越均匀,溅射速率越快。 | ||||||
靶材的分类 | ||||||
按照化学成分 不同可分为 | (1)金属靶材(纯金属铝、钛、铜、钽等)。 | |||||
(2)合金靶材(镍铬合金、镍钴合等)。 | ||||||
(3)陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)。 | ||||||
按照形状不 同可分为 | 矩形靶、圆形靶、柱形靶、空心旋转圆管靶以及异形靶。 | |||||
按照应用领域不同可分为 | (1)半导体芯片靶材 | |||||
(2)平面显示器靶材 | ||||||
(3)太阳能电池靶材 | ||||||
(4)信息存储靶材 | ||||||
(5)电子器件靶材 | ||||||
(6)其他靶材 |
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